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罐體拋光機拋光分為兩個(gè)階段舉行
罐體拋光機拋光分為兩個(gè)階段舉行，起首是粗拋，目標是去除磨光毀傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，罐體拋光機粗拋形成的表層毀傷是次要的思量，不外也應當盡大概小;其次是精拋，其目標是去除粗拋孕育發(fā)生的表層毀傷，使拋光毀傷減到最小。
拋光機拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應絕對平行并勻稱(chēng)地輕壓在拋光盤(pán)上，細致防備試樣飛出和因壓力太大而孕育發(fā)生新磨痕。同時(shí)還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑偏向來(lái)回移動(dòng)，以制止拋光物局部磨損太快。在拋光歷程中要不停添加拋光液或別的拋光助劑，使拋光物連結肯定濕度。
濕度太大會(huì )削弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相出現浮凸和鋼中非金屬混合物及鑄鐵中石墨相孕育發(fā)生“曳尾”征象;濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì )使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光芒，乃至出現黑斑。
粗拋后磨面平滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下視察有勻稱(chēng)細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時(shí)轉盤(pán)速率可得當進(jìn)步，拋光時(shí)間以?huà)伿Т謷伒臍麑訛橐?。精拋后磨面豁亮如鏡，但在相襯照明條件下則仍可見(jiàn)到磨痕。
比年來(lái)，海表里在拋光機的性能上作了大量的研究事情，研究出不少新機型、新一代的拋光設置裝備部署，正由原來(lái)的手動(dòng)操縱生長(cháng)成為種種百般的半主動(dòng)及全主動(dòng)拋光機。
