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罐體拋光機光學(xué)加工拋光工藝的兩個(gè)拋光階段
光學(xué)加工是一種光學(xué)零件的罐體拋光機拋光工藝，罐體拋光機它的目的就是除去精磨后的凹凸及裂紋層，例表面透明光滑，達到規定的表面疵病等級B;精確的修正表面的幾何形狀，達到規定的面形精度N。
精磨表面結構對拋光過(guò)程有著(zhù)一定程度的影響，這種影響就在凹凸層和除去裂紋層中表現。
1、凹凸層：拋光模和玻璃的凹凸層頂峰接觸，壓強很大，而凹谷為拋光液進(jìn)入整個(gè)表面又提供子良好的條件，因此拋光十分迅速。隨著(zhù)拋光過(guò)程的繼續，接觸面積增大，壓強減小，拋光液的附著(zhù)能力降低。使拋光過(guò)程減慢。
2、拋光而達到裂紋層，玻璃表面同拋光模表面全部接觸，拋光過(guò)程趨于穩定緩慢，而拋光模開(kāi)始鈍化，拋光繼續，鈍化加劇，拋光效率進(jìn)一步降低，鈍化程度隨過(guò)程的持續時(shí)間而定，而持續時(shí)間直接決定于裂紋層的深度。
光學(xué)加工的拋光工藝會(huì )由多種因素受到影響，如拋光劑，拋光液的供劑量，拋光液的濃度，酸值度和溫度等各種因素的影響。還有更多有光學(xué)加工的解說(shuō)，小編還會(huì )為大家分享，敬請關(guān)注！
