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高精密罐體拋光機和拋光原理及工藝簡(jiǎn)介
高精密罐體拋光機和拋光原理及工藝簡(jiǎn)介：
高精密平面研磨和拋光是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盤(pán)基面上相對運動(dòng)，罐體拋光機使工件表面變得非常高的平整度及光滑度，工件固定不需要強夾、真空、磁鐵，只是自然地放置在磨盤(pán)上，基本上能適合加工任何金屬和非金屬材料的工件，沒(méi)有了強制性的裝夾及一般磨床的剛性磨削，減少的了沖擊及發(fā)熱產(chǎn)生的次生變形，更用利于高精度和高光潔度的加工。即使一個(gè)沒(méi)有經(jīng)驗的操作員也可以輕易獲得最佳0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。
平整度：
工件的平整度取決于磨盤(pán)的平整度。隨著(zhù)加工領(lǐng)域的不斷深化及精度和效率要求越來(lái)越高：“WEIANDA”從鑄鐵盤(pán)、合成盤(pán)、銅盤(pán)、純錫盤(pán)、樹(shù)脂盤(pán)發(fā)展到金剛石盤(pán)，并通過(guò)各種方法把盤(pán)的平面訂修到最佳達2um。
粗糙度：
表面粗糙度取決于磨料顆粒的大小、形狀和磨盤(pán)的材料， 以及工件材質(zhì)及硬度。
粗磨：
利用較粗顆粒度的磨料在磨盤(pán)與工件面上磨削，進(jìn)刀量大、效率高;但磨削面較粗，適用于磨削余量較多之工作。(如圖A)
中磨：
利用中度顆粒的磨料在磨盤(pán)與工件面上磨削，進(jìn)刀量快、效率高，表面粗糙度適中，適合磨削量一般之工件。(如圖B)
精磨：
利用較細顆粒度的磨料在磨盤(pán)中與工件面上磨削，進(jìn)刀量較小、表面光潔度好，磨削痕均勻而細。(如圖C)
軟拋光：
利用磨盤(pán)上加裝一個(gè)特殊材料拋光墊或拋光布，拋光料在拋光墊或拋光布之間運動(dòng)，使工件比硬拋光更有超鏡子一樣的高光潔度。(如圖D)
硬拋光：
利用合成盤(pán)、銅盤(pán)、錫盤(pán)、樹(shù)脂盤(pán)等非常高精密度的基面加入微米級金剛石磨料，使工件表面變得既高精密平面度，又有像鏡子一樣的高光潔度。
