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高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機對于各種大尺寸
高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機對于各種大尺寸硅片及晶體材料的研磨拋光加工都能起到理想的效果;高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機是由四個(gè)吸附盤(pán)吸附硅片與拋光盤(pán)做逆時(shí)針旋轉來(lái)達到拋光的目的，是專(zhuān)門(mén)為加工制備晶體、陶瓷、玻璃、金屬、巖樣、礦樣、耐火材料、PCB板、復合材料的新一代產(chǎn)品。它配備了203mm直徑的研磨拋光盤(pán)和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光直徑≤80mm或對角線(xiàn)長(cháng)≤80mm的矩形平面。采用本機并選擇適當的附件，可自動(dòng)批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。無(wú)級調整擺動(dòng)頻率，實(shí)現平面磨拋更加平整。
高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機的性能特點(diǎn)：
1、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機的吸附盤(pán)由四臺單獨的電機驅動(dòng)、速度與壓力可調。
2、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機的控制系統中采用PLC彩色終端等先進(jìn)技術(shù)，系統的響應速度更快、更精確，并具有遠程監控，遠程維護的功能。
3、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機運行平穩，拋光后的產(chǎn)品厚度公差可控制在正負0.002mm范圍內，粗糙度可達到0.0005mm。
下一條:罐體拋光機工作原理
