平板拋光機將拋光分為兩個(gè)階段。粗磨的目的是去除磨損損傷層，使其達到最大的拋光速度。粗拋光造成的表面損傷是次要因素，但應盡可能小。二是完成（或最終拋光），消除表面粗糙造成的損壞，盡量減少拋光損壞。

　　平板拋光機拋光時(shí)，樣品研磨表面和拋光盤(pán)應完全平行均勻地壓在閥瓣上，防止樣品因壓力過(guò)大而飛出并產(chǎn)生新的磨損痕跡。同時(shí)，樣品應旋轉，并沿車(chē)輪半徑來(lái)回移動(dòng)，避免局部磨損過(guò)快，加入漿液，使拋光布保持一定的濕度。

　　高濕度降低了拋光的磨損效果，使樣品中的硬相呈現出鋼、非金屬夾雜物和鑄鐵中石墨的拖尾現象。濕度太小，因為摩擦熱會(huì )加熱樣品，降低潤滑效果，磨削表面會(huì )失去光澤，甚至黑點(diǎn)，輕合金會(huì )拋出表面。

　　為了達到粗加工的目的，平板拋光機所需的速度較低，最好不要超過(guò)600r/min；由于變形層，拋光時(shí)間應大于去除劃痕。粗拋光后，磨削表面光滑，但表面粗糙。顯微鏡下有均勻的細磨痕，需要消除。