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封頭拋光機操作的關(guān)鍵
封頭拋光機要設法得到大的拋光速率，以便盡快除掉磨光時(shí)發(fā)生的損害層。封頭拋光機一起也要使拋光損害層不會(huì )影響最終調查到的組織，即不會(huì )構成假組織。前者需求運用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損害層，但拋光損害層也較深；后者需求運用最細的材料，使拋光損害層較淺，但拋光速率低?！ √幚磉@個(gè)對立的最佳的方法就是把拋光分為兩個(gè)期間進(jìn)行。粗拋意圖是去除磨光損害層，這一期間應具有最大的拋光速率，粗拋構成的表層損害是非必須的思考，不過(guò)也應當盡可能??；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其意圖是去除粗拋發(fā)生的表層損害，使拋光損害減到最小。拋光機拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應肯定平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，留意避免試樣飛出和因壓力太大而發(fā)生新磨痕。
一起還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物部分磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷增加微粉懸浮液，使拋光織物堅持必定濕度。濕度太大會(huì )削弱拋光的磨痕效果，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相發(fā)生“曳尾”表象；濕度太小時(shí)，由于沖突生熱會(huì )使試樣升溫，光滑效果減小，磨面失去光澤，乃至呈現黑斑，輕合金則會(huì )拋傷外表。為了到達粗拋的意圖，需求轉盤(pán)轉速較低，不要超越600r/min；拋光時(shí)刻應當比去掉劃痕所需的時(shí)刻長(cháng)些，由于還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下調查有均勻詳盡的磨痕，有待精拋消除。
一起還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物部分磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷增加微粉懸浮液，使拋光織物堅持必定濕度。濕度太大會(huì )削弱拋光的磨痕效果，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相發(fā)生“曳尾”表象；濕度太小時(shí)，由于沖突生熱會(huì )使試樣升溫，光滑效果減小，磨面失去光澤，乃至呈現黑斑，輕合金則會(huì )拋傷外表。為了到達粗拋的意圖，需求轉盤(pán)轉速較低，不要超越600r/min；拋光時(shí)刻應當比去掉劃痕所需的時(shí)刻長(cháng)些，由于還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下調查有均勻詳盡的磨痕，有待精拋消除。
