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該如何保護平面罐體拋光機上所用的拋光墊
在平面罐體拋光機對工件進(jìn)行拋光作業(yè)時(shí)，會(huì )用到拋光墊這樣一個(gè)輔助材料。拋光墊是多種多樣的，有布料型，聚氨酯型等，是拋光過(guò)程中必不可少的一種材料。拋光墊與拋光盤(pán)一樣，在平面罐體拋光機上長(cháng)久作業(yè)時(shí)會(huì )有一定損耗，為了避免這種損耗，我們應該在拋光時(shí)注意各項問(wèn)題，保護拋光墊在平面罐體拋光機上的長(cháng)久耐用。
為了更好的分析出如何保護拋光墊，詳細了解下這種材料在平面罐體拋光機上具體的使用方式。拋光墊分兩面，一面是無(wú)紡布材料，這一面主要是和工件接觸面，用來(lái)和工件產(chǎn)生摩擦達到效果的面；另一面是膠，通常用的是3M背膠，是用來(lái)將拋光墊固定在磨盤(pán)上的。固定好后，磨盤(pán)和拋光墊轉動(dòng)，工件自轉，產(chǎn)生摩擦力來(lái)達到工件表面光亮的效果。根據以上的各種分析，得出平面罐體拋光機上改如何保護拋光墊的以下幾個(gè)方法：
首先，具體工件具體配置。這是什么意思呢？也就是說(shuō)什么樣的工件選擇什么樣的平面罐體拋光機拋光墊，兩者要相匹配，不能亂來(lái)。
其次，一張拋光墊不能同時(shí)運用到不同工件的拋光中。我們都知道，拋光墊在拋光過(guò)程中會(huì )和工件充分摩擦，工件中的顆?；蛘叻肿咏Y構可能殘留在拋光墊上，如果再拿到另一材質(zhì)工件上去拋光，那就有可能遺留的分子結構和新的材料分子結構發(fā)生反應形成新的分子結構，會(huì )對拋光墊產(chǎn)生腐蝕，甚至影響拋光效果。
再者，在拋光墊完成一次拋光后，我們需要對其進(jìn)行清洗，保存。為什么要清洗呢？那是因為拋光時(shí)拋光液等物質(zhì)會(huì )侵蝕到拋光墊內，為避免這些殘留物質(zhì)在拋光墊上，損耗它的材質(zhì)，影響下次拋光效果，故需要清洗。
最后，避免平面罐體拋光機拋光墊與易腐蝕的拋光液混合用。保存時(shí)要將拋光墊單獨存放，不能和其他液體之類(lèi)的東西存放在一起。
上一條:如何調整罐體拋光機
